■高密着カバー処方
ニキビ跡、シミに高密着カバー処方でしっかり隠したい部分に
■スパチュラ型チップ採用
■うるおいケア成分配合。
◇うるおい成分：ビタミンC誘導体（テトラへキシルデカン酸アスコルビル）、PDRN（DNA‐Na）、ナイアシンアミド、グルタチオン
■皮フ刺激テスト済み／全ての方に皮フ刺激が起こらないというわけではありません。
■無香料
■原産国：日本

スパチュラ型チップに適量を取り気になる部分に置き、指先で軽くたたきながら伸ばします。

＜使用上の注意＞
●傷、はれもの、湿疹等、異常のある時は、ご使用をおやめください。
●お肌に異常が生じていないかよく注意してご使用ください。
●使用中、又は使用後日光にあたって、赤み、はれ、かゆみ、刺激等の異常があらわれた時は、使用を中止し、皮膚科専門医へご相談をおすすめします。そのまま他の化粧品も含めて使用を続けますと悪化することがあります。
●使用後は、容器の口元をきれいにふきとり、しっかりキャップを閉めてください。
●極端に高温又は低温の場所、直射日光の当たる場所には置かないでください。
●乳幼児の手の届かない場所に保管してください。

ジメチコン、水、マイカ、プロパンジオール、ＰＥＧ－１０ジメチコン、シリカ、グリセリン、キシリトール、トリエチルヘキサノイン、パルミチン酸エチルヘキシル、ダイマージリノール酸ダイマージリノレイル、スクワラン、ステアリン酸亜鉛、水酸化Ａｌ、ＤＮＡ－Ｎａ、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、ナイアシンアミド、グルタチオン、（トリメチルペンタンジオール／アジピン酸／グリセリン）クロスポリマー、イソステアリン酸、オクチルドデカノール、ダイマージリノール酸（フィトステリル／イソステアリル／セチル／ステアリル／ベヘニル）、ステアリン酸、クエン酸Ｎａ、ジステアルジモニウムヘクトライト、トリイソステアリン酸ポリグリセリル－２、ビスジグリセリルポリアシルアジペート－２、フェノキシエタノール、ヘキサ（ヒドロキシステアリン酸／ステアリン酸／ロジン酸）ジペンタエリスリチル、ポリリシノレイン酸ポリグリセリル－６、（ジメチコン／ビニルジメチコン）クロスポリマー、（ＰＰＧ－１２／ＳＭＤＩ）コポリマー、炭酸Ｃａ、トコフェロール、ヒドロキシアパタイト、酸化チタン、酸化鉄